CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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    誠(chéng)峰等離子體發(fā)生器清洗/刻蝕機(jī)對(duì)大多數(shù)高分子復(fù)合材料的濺射

    誠(chéng)峰等離子體發(fā)生器清洗/刻蝕機(jī)對(duì)大多數(shù)高分子復(fù)合材料的濺射:
           等離子體發(fā)生器清洗/蝕刻機(jī)產(chǎn)生的等離子體在封閉的空腔內(nèi)設(shè)置2個(gè)電極生成靜電場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來(lái)越薄,分子間距和分子或離子的自由移動(dòng)距離越來(lái)越長(zhǎng)。在靜電場(chǎng)的作用下,它們會(huì)發(fā)生碰撞,生成等離子體。這些離子體具有很高的活性,它們的能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,并在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)。不一樣氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)。例如,氧氣等離子體具有較高的氧化性,能夠氧化光刻膠反應(yīng)產(chǎn)生氣體,從而達(dá)到清潔效果;腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性,可以滿足腐蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。

    等離子體發(fā)生器

           等離子體發(fā)生器技術(shù)的最大特點(diǎn)是可以處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧樹(shù)脂,甚至聚四氟乙烯,可以實(shí)現(xiàn)整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清潔。
           經(jīng)濟(jì)快速發(fā)展,人們的生活水平不斷提高,對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也日益提高,等離子體發(fā)生器隨之逐步進(jìn)入生活消費(fèi)品生產(chǎn)行業(yè)中;另外,科技的不斷發(fā)展,各種技術(shù)問(wèn)題的不斷提出,新材料的不斷涌現(xiàn),越來(lái)越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性,并投入大量資金進(jìn)行技術(shù)攻關(guān),等離子體發(fā)生器在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們相信等離子體技術(shù)用范圍會(huì)越來(lái)越廣;技術(shù)成熟,成本降低,應(yīng)用會(huì)越來(lái)越普及。

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