CRF plasma 等離子清洗機

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    利用電漿清洗機的蝕刻系統除去孔內的灰塵和微蝕刻

    利用電漿清洗機的蝕刻系統除去孔內的灰塵和微蝕刻:
           電漿清洗機從二十世紀初開始。伴隨著高科技產業的迅速發展,它的應用日益廣泛,目前在很多高科技領域都處于核心位置,電漿清洗機對產業經濟和人類文明的影響最為顯著,首推了電子工業,特別是半導體光電行業。電漿清洗機具有成本低、勞動量小、工作效率高等優點,是1種新型的電漿清洗機方式。

    電漿清洗機

           我們都知道,太陽能光伏產業對清潔生產技術要求很高。太陽極硅片材即使無電子級要求,但純度也非常高,等離子清洗技術誕生后,在切片等工序中,為了清洗硅晶片和多余雜質,電漿清洗機變成1種常用的清洗方式。在綜合了等離子物理、等離子化學和氣-固界面化學反應,有效去除表面污漬和附著力。
           電漿清洗機技術應用于各種電子零部件的制造中,沒有電漿清洗機技術,就沒有現在這樣發達的電子、信息、通信行業。另外,等離子清洗技術還可以應用在光電、航空、聚合物等行業,也可以用在光學元件上鍍,通過電漿清洗機工藝技術處理過后,可以延長模具或刀具壽命,增強耐磨層、提升復合材料、纖維織布或內含鏡片的表面附著力等,以上領域在生產過程中,會遇到粘接不牢固等問題,都需要電漿清洗機的進步才能實現。電漿清洗機具有工藝簡單、節能、節省材料,降低了材料需求的特點。它是通過等離子轟擊物體表面而實現PBC去污的。利用電漿清洗機的蝕刻系統除去孔內的灰塵和腐蝕,從而除去鉆孔中的絕緣,最終提高產品質量。

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