CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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    等離子設(shè)備噴涂與火焰、氣相表面噴涂技術(shù)工藝的區(qū)別

           本文給讀者詳細(xì)介紹一下等離子設(shè)備噴涂技術(shù)與火焰、氣相表面噴涂技術(shù)工藝的區(qū)別:
    一、等離子設(shè)備噴涂與火焰噴涂的區(qū)別
    等離子設(shè)備噴涂噴涂技術(shù)是繼火焰噴涂之后大力發(fā)展起來(lái)的大種精密噴涂方法。它具有:
    (1)超高溫特征,易于實(shí)現(xiàn)高熔點(diǎn)材質(zhì)的噴涂。
    (2)噴射微粒的速率高,涂層高密度,黏結(jié)應(yīng)度高。
    (3)噴涂材質(zhì)鑒于應(yīng)用稀有氣體做為通入汽體,不容易被氧化。電漿料的高溫可以瞬間熔化任何以前已知的物質(zhì),這使得等離子噴涂的材質(zhì)更加豐富,具有噴涂高熔點(diǎn)陶瓷材料的特點(diǎn)。火焰噴涂只適合一-些熔點(diǎn)較低的噴涂材質(zhì)。

    等離子設(shè)備

    二、等離子設(shè)備噴涂與氣相沉積的區(qū)別
    (1)根本方法不同(定義)
    等離子體噴涂是將粉末木粉微粒送入高溫等離子體,瞬時(shí)加熱至熔化或半熔化狀態(tài),然后分別在基體表面以單個(gè)微粒為單位形成層狀堆涂層。氣相沉積是通過(guò)電阻扣熱、離子轟擊或電子束照射,將各種或幾種材質(zhì)氣化(或化學(xué)分解),直接在基體表面沉積薄膜的工藝方法。
    (2)條件不同
    一般情況下,等離子噴涂可在真空環(huán)境中直接實(shí)現(xiàn)大氣環(huán)境氣相沉積。
    (3)涂層的結(jié)構(gòu)和厚度不同
    涂層組織呈層狀堆積,涂層中存在大量的微粒間界面和氣孔等缺陷,是高密度的數(shù)微米厚的薄膜材質(zhì)。
    (4)等離子設(shè)備噴涂性能不同,在一定程度上改善了涂層的氣相沉積性能,極大地改善了材質(zhì)的性能。
            以上兩種就是等離子設(shè)備噴涂與火焰、氣相表面噴涂技術(shù)工藝的區(qū)別。

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