等離子體設(shè)備在高頻高壓下產(chǎn)生的中性粒子通入不同的氣體：
        等離子體設(shè)備環(huán)境有利于產(chǎn)生許多化學(xué)反應(yīng)。氣源種類、流速、壓強(qiáng)、輸入功率等工藝參數(shù)決定某一反應(yīng)能否產(chǎn)生首要輸入工藝參數(shù)。邊境與底端之間也會(huì)有多種反應(yīng)。燒蝕率和堆積率是通過相關(guān)表面處理得到的。用有機(jī)蒸汽作為氣源時(shí)，會(huì)發(fā)生等離子體的聚合和聚集。刻蝕堆積過程中，材料表面與等離子體中原有的或新生成的成分發(fā)生反應(yīng)，即表面條件，如污染物、阻聚劑、阻檔層、氣體吸附等，也會(huì)對(duì)過程動(dòng)力學(xué)和堆積薄膜特性產(chǎn)生影響。

       等離子體設(shè)備中的分子被分解成高活性的成分，這些高活性的成分隨后與有機(jī)物發(fā)生反應(yīng)。H2既能與雙鍵相連，又能從其它分子中分離出來。O2類等離子體中，電離和解離能的成分很多。其他的，也可以構(gòu)成像O2(1△g)這樣的亞穩(wěn)態(tài)成分。對(duì)于氧原子來說，重要的反應(yīng)就是加入一個(gè)雙鍵，CH鍵變成羥基或羧基。氮?dú)饪梢院惋柡突虿伙柡头肿影l(fā)生反應(yīng)。
       等離子體設(shè)備化學(xué)的一個(gè)有趣的發(fā)展是，把原來簡(jiǎn)單的分子分解成混亂的分子結(jié)構(gòu)。典型的反應(yīng)包括：異構(gòu)化，消除原子或小基團(tuán)，二聚/聚合，以及破壞原始數(shù)據(jù)等等，例如，CH4、H2O、N和O等氣源通過輝光放電的混合，終獲得了來自生命的物質(zhì)——氨基酸。等離子體中存在順反異構(gòu)化，成環(huán)，開環(huán)反應(yīng)。除單分子反應(yīng)外，還能產(chǎn)生雙分子反應(yīng)。