CRF plasma 等離子清洗機

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    真空電漿清洗機真空腔里材料的反應機理和里面的結構

    真空電漿清洗機真空腔里材料的反應機理和里面的結構:
          真空電漿清洗機其核心原理是:清洗試樣表面,并對試品進行表面活化處理,增加樣品的親水性;即使等離子體是一門新興學科,但它已被廣泛應用于科研的各行各業,涵蓋材料學、光學、電子、醫學、環境生物學等各行各業,主要運用于以下實驗:
    1:探討材質、表面改性、親水作用、黏結和枝接實驗;
    2:材料研究,用于原材料表面改性,達到疏水效果,俗稱荷葉效應。

          真空電漿清洗機的關鍵是plasma中活性顆粒的原理“激活作用”除去物體表面污垢。腔內設置兩個電極生成電場,用真空腔提取相應的真空值。隨著氣體越來越薄,分子之間的距離越來越遠,分子或離子之間的自由運動距離越來越大。在電場的作用下,它們之間的碰撞產生等離子體,等離子體的活性越來越高。它的能量會破壞幾乎所有的化學鍵,并在任何暴露的表面引起反應。O2等離子體氧化性高,能氧化光刻膠反應產生的氣體,達到清洗效果;蝕刻氣等離子體具有良好的各向異性,能滿足蝕刻的需要。采用真空電漿清洗機處理技術的真空等離子清洗設備,會產生輝光,因此稱為輝光放電處理。
    真空電漿清洗機清洗樣品的表面,并對其進行表面活化處理,通過加入特殊氣體及處理工藝,可使試品達到親水、疏水效果。
    下面講解下真空電漿清洗機它的主要結構功能:
    1、引進America霍尼韋爾真空壓力傳感器,使機器具有可靠的基礎,實現對機器的智能控制;
    2、采用艙體,管道,閥體均采用不銹鋼材料,稱為全防腐型;
    3、本儀器實現了手動、自動兩種工作模式任意切換;
    4、本裝置實現了程序化設計,程序預先編輯好,儀器就能自動完成實驗;
    5、不需任何消耗品,使用成本低,多氣路可單獨控制;
    6、不需特別保養,在日常使用中可使儀器保持清潔;
    7、有3種自動模式供用戶選擇,并可同時進行手動操作。


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