為了滿足珠寶行業(yè)對產(chǎn)品美觀性、功能性和耐久性的高要求，射頻真空等離子清洗機的應用變得越來越重要，由于等離子體本身可以在處理溫度低、間隙滲透性高的情況下進行超精細清洗。
       射頻真空等離子清洗機是1種智能化設備，運用等離子體達到傳統(tǒng)清洗方法無法達到的效果。其中產(chǎn)生的等離子體是一種物質(zhì)聚集狀態(tài)，也稱為第四物質(zhì)狀態(tài)。通過將工藝氣體通入設備腔體，向氣體施加足夠的能量，將其分離成等離子體狀態(tài)，最終等離子體與處理物體發(fā)生反應，從而達到處理效果。

      在珠寶行業(yè)，如果plasma在表盤粘接前清洗，可以去除框架和表盤表面的原始污染物，刺激表面活性，降低粘接成本，使表盤粘接更加牢固。如果不使用等離子體清洗，粘接價格會更高，甚至可能導致粘接不牢固，表面涂層的成品率可能會降低，產(chǎn)品的使用壽命可能會縮短。
       此外，plasma技術過程極其環(huán)保，不會在需要處理的零件上留下任何清潔液殘余物。這是一個環(huán)保的過程，也正是因為這些原因，等離子技術對珠寶行業(yè)非常重要。此外，在一些常規(guī)的清潔方法中，會使用既有殘余物又需要干燥時間的清潔液。由于清潔液通常對環(huán)境有害，所以在這個過程中會產(chǎn)生很高的廢棄處理成本。最終，鑒于珠寶行業(yè)附加的干燥過程，會帶來很多時間損失。
       CRF射頻真空等離子清洗機可以在較低的處理溫度下進行超精細清洗，因此不需要對組件進行額外的干燥。通過這種方法，珠寶可以通過等離子體處理來提高原材料的表面張力值，去除酸洗或其他工藝，環(huán)保經(jīng)濟，使粘結結果更加牢固、光滑、美觀。