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常壓等離子設(shè)備電離對甲烷等離子體臨氫氣轉(zhuǎn)化反應(yīng)的作用：
隨著電離的擴(kuò)大甲烷的轉(zhuǎn)化率和C2烴收率呈上升趨勢，C2烴選擇性先擴(kuò)大后減小，在常壓等離子設(shè)備和放電參數(shù)的作用。
由CH活性物種的強(qiáng)弱可探知甲烷在等離子體中裂解的程度，因為同一條譜線的強(qiáng)度和該成分的粒子密度成正比，所以通過譜線的相對強(qiáng)度隨各工藝參數(shù)的變化可推測該粒子數(shù)隨相應(yīng)工藝參數(shù)的變化。提高放電電壓，常壓等離子設(shè)備CH活性物種的發(fā)射強(qiáng)度隨放電電壓的增加而增強(qiáng)。
分析其原因是在氣體流速不變的條件下，輸入電壓低時電子受電場加速獲得的能量低，同時低能態(tài)下總的碰撞橫截面積也較低，甲烷與高能電子的碰撞概率小，從而導(dǎo)致生成的活性物種少。隨著放電電壓的升高，電離率和電子密度增加，同時高能電子與甲烷碰撞橫截面也會跟著擴(kuò)大，代表著碰撞概率加大，生成的CH活性物種增多。同時也注意到，在實驗過程中，隨著電壓的增加，反應(yīng)器壁上的積碳有所增加。
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CRF plasma 等離子清洗機(jī)
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